當(dāng)前位置:岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司>>等離子體刻蝕與沉積設(shè)備>> Vision 310等離子體增強化學(xué)氣相沉積(PECVD)系統(tǒng)
1.靈活的沉積能力
·基于硅的沉積工藝-氧化物、氮化物、氧氮化物、非晶硅(a-Si)、碳化硅(SiC)
·研究與開發(fā)
·原型制作
·小批量生產(chǎn)-光子學(xué)、固態(tài)照明、MEMS和納米技術(shù)
·應(yīng)用領(lǐng)域:層間絕緣層、鈍化層、封裝層、掩模層、抗反射層
2.性能價值
1.大尺寸手動裝載載物臺(406mm)
2.出色的潔凈度
3.高均勻性
4.高吞吐量
5.可靠的軟件
6.小巧的占地面積
7.具有成本效益
8.易于維護
9.采用行業(yè)頭部組件
3.經(jīng)過驗證的解決方案
·廣泛的“交鑰匙"工藝
·通過優(yōu)化的噴淋頭實現(xiàn)高薄膜均勻性
·高標(biāo)準(zhǔn)的利用率和可靠性--采用一級(Tier Ⅰ)OEM組件、快速抽真空、可選原位終點檢測,避免過度清洗
·享有認可的服務(wù)與支持
·通過低頻或氦氣稀釋實現(xiàn)應(yīng)力控制